產品介紹
透射和反射是光譜測試里面最常見的測量模式。物體表面的反射主要分為鏡面反射和漫反射兩種，光在完美的平整表面上的反射是鏡面反射，光在毛糙表面上的反射是漫反射，光在大多數物體表面的反射則介于兩者之間。透射跟反射情況類似，但是完美平面和粗糙平面的接收方式不同，對于完美的平整樣品，采用0度角入射、180度角接收即可；對于粗糙樣品，則需要采用0度角入射、積分球接收的形式。
本系統包含反射、透射和透反射三個模塊。反射光譜系統用于固體和粉末樣品反射率測量，用于分析樣品顏色和成分信息。透射光譜系統主要用于測量和量化氣體、液體的濃度，光在樣品中傳輸的距離以及樣品濃度。透反射光譜系統用測測試透明或半透明固體，粉末和薄膜樣品。
系統組成
光譜模塊
反射測試模塊、透射測試模塊、透反射測試模塊
控溫模塊
可升降精密加熱臺（帶透光） 溫度范圍RT~150℃（左圖）
高低溫控溫裝置 溫度范圍：-196~600℃；真空環境，可通氣氛；電極探針（右圖）
涂布模塊
高精度狹縫涂布機
詳細參數介紹
光譜儀
| 光譜范圍200-1100nm，信噪比500：1
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| 光源 | 采用氘鹵二合一光源，適用波長215-2500nm
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透射性積分球
| PTFE內膽材質，，適用波長200-2500nm
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光纖
| 波段200-1100nm，芯直徑600μm
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可升降精密加熱臺
| 內徑透光孔，溫度范圍RT~160℃，精度±0.5℃
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高低溫溫控裝置
| 溫度范圍-196~600℃，精度±0.1℃，可抽真空，可通氣體
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高精度狹縫涂布機 | 涂布方式：狹縫；刮涂；涂布寬度：Max 120mm；涂布平臺速率：5-100mm/s；涂布模頭豎直方向調節精度：0.002mm；平臺加熱溫度：RT~160℃ |
